三重県知事表彰を受賞(2021年1月)
三重県における長年の貢献が評価され、2021年1月に三重県知事より表彰されました。

半導体材料ガスをはじめ、次世代を拓く特殊ガスの大規模製造拠点です。
当社の4工場の中で最大規模を誇る、半導体材料ガスと高純度ガスの専門工場です。
半導体材料ガス製造では、「ジボラン棟」「モノシラン棟」「MO棟」「容器整備棟」などの専用棟があり、国内・海外の半導体メーカー様への高品質で迅速な供給を行う一大拠点として活動しています。
高純度ガス製造では、すべてのガス種に精製器を装備するなど、徹底した高純度化を追求しています。
〒518-1403 三重県伊賀市炊村2500(Googleマップを開く)
時代の一歩先を見すえた、高度な特殊ガスプラント

各種の大型パッケージによる大量供給が可能です。コンテナは内面粗度Rmax<1μmの研磨容器を採用。また、300mmウエハー量産工場向けの大量供給ニーズにお応えする大型容器入り製品(アンモニアなど)も用意しました。
![]()
クリーン仕様製品については、パーティクルフリー窒素ガスによりパーティクルを徹底除去しています。
![]()
クリーンブースにて精密ロードセルによる高精度ガス秤を行い、高圧フィルターでパーティクル除去したクリーンガスを充填。さらに統計的工程管理システム「SPC」により混合精度を向上させています。
![]()
弊社の高精度標準ガスで校正し、管理された分析計で高精度・高感度分析を行っています。
![]()
工場全体のガス漏えいなどの異常を監視しています。
![]()
特殊ガス用の容器置場として日本最大規模を誇ります。小山工場(栃木県)と北九州工場の中間地点に豊富な備蓄基地を持つことで物流面でも大きな役割を果たしています。
![]()

ジボラン製品の原料合成、混合充填、分析までを一貫製造できる最新鋭の設備を有しています。

モノシランに特化した専用製造施設
ますます需要の高まる半導体材料ガスであるモノシラン(SiH4)製造の専用棟です。
原料の大量受入、大量充填を可能にし、省力化、物流合理化も実現しています。
集合容器の専用トレーラーで原料の大量受入を行います。
![]()
摺動部分のないダイアフラム式コンプレッサーを採用しています。
![]()
搬送車両のISOモジュールから充填設備のパネルに直接接続できます。容器の取り付け後、安全を十分確保した上で充填を行います。
![]()

化合物半導体用のMOガスに特化した製造施設
MOCVD用MOガス(アルシン、ホスフィン)は高速デバイス、携帯電話、赤色レーザ、光発電などの素子製造に欠かせません。
三重工場のMO棟は世界最大レベルのMOガス生産量と精製能力を誇っています。
世界トップクラスのMOガス精製設備を構築しました。ppbレベルまでの不純物除去が可能です。
![]()
極限まで精製した高純度ガスをクリーンルームにて容器へ充填します。量産対応を図り、安定した品質で同時に5本の容器に充填可能です。
![]()
ガスクロマトグラフ質量分析計、真空対応FTIRをはじめ高度な計器を駆使し、充填室、容器置場と隣接させ、生産工程と一体化した迅速な分析管理体制です。厳しい社内品質基準のもとでつねに最高レベルの品質確保に努めています。
![]()

製品化リードタイムの短縮と安定供給を実現する容器整備施設
高圧ガス容器での高品質な供給には、ガスの純度そのもののほか、容器内面の清浄度が重要です。三重工場では容器の耐圧試験から内面洗浄、容器内の不純物を極限まで取り除く専用設備体制を確立。自工場での整備により製品化へのリードタイムが短縮され、迅速な対応と安定供給を実現しています。
容器内部の洗浄方法の1つとして、特殊グリッドによる高圧直圧式ブラスト設備を構築しました。工程に超高純度高圧窒素を用い、洗浄度を極限まで高めています。
![]()
自動化された設備にて、安全かつ効率的に法定耐圧検査を実施しています。耐圧データは自動的に生産系情報システムにリンクアップし、容器の安全性を担保します。
![]()
自社開発した容器内面精密研磨設備と、30年以上にわたり培った研磨ノウハウを組み合わせることで、クリーン容器内面粗度を極小化します。
クリーン化された環境で容器内面の自動内面処理を行います。
![]()
クリーン容器(内面粗度Rmax<1μm)を洗浄後、大型オーブンによる加温真空引きプロセスで、容器内面の残留水分をppbレベルまで除去する、最先端の容器加温真空引き設備です。
![]()
最終工程である塗装では最新のVOCフリー塗料を用い、従来の有機溶剤系塗料に比べて環境負荷を大きく低減しています。
![]()